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膜内部电子环境考虑:
  阳离子空位:P型半导体如FeO,Fe3O4膜
  阴离子空位:N型半导体如Fe2O3膜
  过程解释:氧化过程的主要是氧离子和铁离子(合金元素形成的离子)在氧化层中的扩散,同时也是电子传导过程。这个氧化腐蚀的过程,本质上也是一个电化学腐蚀过程。这也是不锈钢和耐热钢在理论上的共同基础。
  实际工件表面的氧化层,还有以下性质:
  ①通过对氧化物体积和被氧化物体积的比较,判断氧化膜是否覆盖工件表面;
  例:V(FeO):V(Fe)=1.77;V(Fe3O4):V(Fe)=2.09
  V(Fe2O3):V(Fe)=2.14
  判定:大于1说明可以覆盖表面,考虑体积,比值,层与层的应力,可以推断出容易起皮。
  ②生成的氧化物结晶结构和致密性;
  ③和基体金属的结合。
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